孔食は、局部的に金属表面の被膜が破壊されることにより生じます。Cl^-存在下での鉄の孔食について、その状況を次図に示します。

孔食発生部では、Fe²⁺のイオン濃度が増大します。（Fe²⁺の拡散速度が遅いため）そして孔食内部の電気的中性を保つために溶液内の陰イオン（Cl^-など）が泳動します。そしてCl^-が孔食部内で濃化します。Cl^-はFeの活性溶解を促進し被膜修復を困難にしますので、孔食速度はますます増大します。このようなことから孔食は、自己触媒反応といえるでしょう。
孔食の発生場所は、例えば表面性状の不均一な部分（カキ傷，ピット傷）あるいは析出物，介在物の周辺部が一般的で、端的に言えば金属表面の不均一部で起こりやすいのです。
孔食が起こりやすいのは、次のような条件といえます。

すきま腐食は、次図のようなメカニズムで発生します。

すきま部は、孔食部と同様に、Cl^-濃化となり腐食が促進されます。